Prof. Dr. Jing Wang

Prof. Dr.  Jing Wang

Prof. Dr. Jing Wang

Ordentlicher Professor am Departement Bau, Umwelt und Geomatik

ETH Zürich

Institut für Umweltingenieurwiss.

HIF D 93.2

Laura-Hezner-Weg 7

8093 Zürich

Schweiz

Zusätzliche Informationen

Forschungsgebiet

Jing Wangs Forschungsschwerpunkte umfassen die Luftreinhaltung, die Reduktion von Nanopartikeltransport und -emissionen, Instrumente zur Messung von Nanopartikeln in der Luft, die Luft- und Wasserfiltration sowie die Mehrphasenströmungsmechanik. Viele seiner Forschungsarbeiten tragen dazu bei, die Bedeutung von Nanonmaterialien für den Umwelt- und Arbeitsschutz besser zu verstehen.

Jing Wang ist seit 2010 Assistenzprofessor für Industrieökologie und Umwelttechnik am Institut für Umweltingenieurwissenschaften, Department Bau, Umwelt und Geomatik.

Er wurde 1979 in Baoji, China, geboren.

Jing Wang studierte an der Pekinger Tsinghua-Universität und erwarb dort im Jahr 2000 einen Bachelor. Zur Fortsetzung seines Studiums wechselte er an die University of Minnesota in Minneapolis/ USA, wo er im Jahr 2003 mit einem Master in Informatik abschloss. Im Jahr 2005 beendete Jing Wang an der University of Minnesota erfolgreich seine Promotion im Fach Luft- und Raumfahrttechnik. Anschliessend arbeitete er als Postdoktorand im Labor für Partikeltechnologie am Departement Maschinenbau der University of Minnesota tätig. Im Jahr 2007 übernahm er dort eine Forschungsassistenzprofessur und fungierte von 2007 bis 2010 als Leiter des Labors.

Ehrungen

Jahr Ehrung
2011 Smoluchowski Preis von Gesellschaft für Aerosolforschung (GAeF)
2006 Preis für die beste Dissertation in den Natur- und Ingenieurswissenschaften, University of Minnesota
2004 Doktoratsstipendium, University of Minnesota

Weitere Informationen

Jing Wang hat u.a. in den Bereichen Nanopartikelmessung, Nanopartikelemissionen und -belastung, Luft- und Wasserfiltration sowie Mikrokontamination mit zahlreichen Partnern aus der Industrie zusammengearbeitet, so beispielsweise mit 3M, BASF, Boeing, Cummins Filtration, Donaldson, DuPont, Entegris, Hollingsworth & Vose, Intel, Samsung Semiconductor, Sematech, Shigematsu Works, TSI und W. L. Gore.

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